Reactor AMAT 0010-59789 PECVD (deposición química de vapor mejorada por plasma)

El AMAT 0010-59789 es un reactor PECVD (Deposición de Vapor Químico Mejorada por Plasma) diseñado por Applied Materials (AMAT). Este equipo es esencial para varios procesos de fabricación de semiconductores, proporcionando un control preciso sobre la deposición de materiales y los tratamientos de superficie.

Características clave:

• Cámara de vacío cilíndrica de aleación de aluminio: Garantiza un entorno estable y controlado para los procesos de deposición.
• Paredes de Acero Inoxidable: Proporciona durabilidad y resistencia a la corrosión.
• Colectores de Gas: Facilita la entrega precisa de gases de proceso.
• Controlador de PC: Integrado con un sistema de gestión de chatarra para una operación eficiente.
• Versatilidad: Adecuado para una amplia gama de aplicaciones que incluyen recocido, oxidación, grabado y deposición de materiales duros y blandos.

Especificaciones Técnicas:

• Dimensiones: 135 x 186 x 119 mm
• Peso: 1,2 kilogramos

Aplicaciones:

• Deposición de materiales: Ideal para depositar películas delgadas de diversos materiales sobre sustratos.
• Tratamiento de Superficie: Utilizado en procesos que requieren modificaciones precisas de la superficie.
• Fabricación de semiconductores: Esencial para crear dispositivos semiconductores de alta calidad mediante procesos controlados de deposición y tratamiento.

Nuestros servicios

1 、 Todos nuestros productos son nuevos, originales y de buena calidad.

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Embalaje y entrega

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