Réacteur AMAT 0010-59789 PECVD (Dépôt Chimique en Phase Vapeur Amélioré par Plasma)

Le AMAT 0010-59789 est un réacteur PECVD (Dépôt Chimique en Phase Vapeur Amélioré par Plasma) conçu par Applied Materials (AMAT). Cet équipement est essentiel pour divers processus de fabrication de semi-conducteurs, offrant un contrôle précis sur le dépôt de matériaux et les traitements de surface.

Principales caractéristiques:

• Chambre à vide cylindrique en alliage d'aluminium : assure un environnement stable et contrôlé pour les processus de dépôt.
• Murs en acier inoxydable : Offrent durabilité et résistance à la corrosion.
• Collecteurs de gaz : facilite la distribution précise des gaz de procédé.
• Contrôleur PC : intégré à un système de gestion des déchets pour un fonctionnement efficace.
• Polyvalence : convient à une large gamme d'applications, notamment le recuit, l'oxydation, la gravure et le dépôt de matériaux durs et mous.

Spécifications techniques :

• Dimensions : 135 x 186 x 119 mm
• Poids : 1,2 kg

Applications :

• Dépôt de matériaux : Idéal pour déposer des films minces de divers matériaux sur des substrats.
• Traitement de surface : utilisé dans les processus nécessitant des modifications de surface précises.
• Fabrication de semi-conducteurs : essentiel pour créer des dispositifs semi-conducteurs de haute qualité grâce à des processus de dépôt et de traitement contrôlés.

Nos services

1. Tous nos produits sont neufs, originaux et de bonne qualité.

2、 Nos prix sont très compétitifs.

3、 Nous avons une grande quantité en stock, nous pouvons donc aider les clients à obtenir les composants difficiles à obtenir.

4、 Toutes les demandes seront évaluées et recevront une réponse dans les 24 heures.

5、  Expédition rapide et bon service après-vente

6、 Nous expédierons les articles dans un délai de 1 à 3 jours ouvrables après réception du paiement.

7、 Bon emballage pour protéger les produits.  

Emballage et livraison

1) sceau d'usine 100% neuf et original!

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3) Paquet : Emballage original avec des cartons.

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