AMAT 0010-54703 Reflexion® LK CMP Système

AMAT 0010-54703 Reflexion® LK CMP Système

Présentation du produit

• Description : Le système Reflexion LK CMP d'Applied Materials est une plateforme de planéité chimique-mécanique (CMP) de 300 mm de premier plan, optimisée pour la performance et la productivité dans les applications CMP en trois étapes.
• Caractéristiques : intègre des technologies avancées de polissage, de nettoyage et de séchage. Comprend une plate-forme de polissage séquentiel unique à trois plateaux et un nettoyant Desica® post-CMP intégré avec la technologie de séchage à la vapeur Marangoni™ pour minimiser les défauts de filigrane et la contamination par les particules.

Spécifications techniques

• Plateforme : 300mm CMP
• Polissage : Polissage séquentiel à trois plateaux
• Nettoyage : Nettoyant Desica® post-CMP intégré
• Technologie de séchage : séchage à la vapeur Marangoni™
• Méthodes d'Endpoint : systèmes de contrôle d'endpoint et de profil in-situ FullVision® XE et RTPC XE
• Métrologie : métrologie en ligne et capacités avancées de contrôle des processus
• Contrôle en temps réel : technologie brevetée Window-in-Pad pour un contrôle précis du polissage en temps réel
• Technologie de détection : spectroscopie à large bande ou détection par courants de Foucault à effet Hall

Nos services

1. Tous nos produits sont neufs, originaux et de bonne qualité.

2、 Nos prix sont très compétitifs.

3、 Nous avons une grande quantité en stock, nous pouvons donc aider les clients à obtenir les composants difficiles à obtenir.

4、 Toutes les demandes seront évaluées et recevront une réponse dans les 24 heures.

5、  Expédition rapide et bon service après-vente

6、 Nous expédierons les articles dans un délai de 1 à 3 jours ouvrables après réception du paiement.

7、 Bon emballage pour protéger les produits.  

Emballage et livraison

1) sceau d'usine 100% neuf et original!

2)Garantie : 1 an

3) Paquet : Emballage original avec des cartons.

4)Délai de livraison : expédié dans 3 à 7 jours après le paiement
 

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